四氧化铵 (75-59-2)性状 简称:TMAH:
沸点:110 °C密度:0.866 g/mL at 25 °C
蒸气压:17.5 mm Hg ( 20 °C)
折射率:n20/D 1.384
闪点:80 °F
储存条件 2-8°C
四甲基氧化铵用途
1.在**硅方面,四氧化铵作为二硅油,氨基硅油,硅油,**硅扩散泵油,无溶剂有硅模塑料,,硅橡胶等的催化剂;
2.在分析方面,四氧化铵作为较谱试剂;
3.在产品提纯方面作为无灰碱用以沉淀许多金属元素;
4.在**硅片生产中常用作计算机硅片面用光亮剂、清洗剂和触刻剂等。
优点:
四氧化铵优点是:它具有强碱性,在不**过分解点的温度下稳定。当催化完毕后很容易除掉,不留任何残渣。对**硅产品无污染。因此又称为“暂时催化剂”,在分析中可用于较谱试剂用来沉淀不含灰份的许多元素的化物。
四氧化铵(TMAH)的
应用领域如下
(1)表面活性剂:由于TMAH属于季铵碱,可以用作表面活性剂。
(2)**合成试剂:TMAH是**碱,能和各种不同的酸反应制备相应的铵盐,如四碳酸铵,四等较难合成且没有市售的铵盐;制备酸性化合物烷基衍生物等。(3)催化剂:四氧化铵在**硅合成方面被广泛用作相转移催化剂,如作二硅油、硅油、**硅扩散泵油、无溶剂有硅模塑料、和硅橡胶等的催化剂;可作为橡胶防老剂中间体的缩合催化剂;作沸石、分子筛合成的催化剂。其优点是,反应完后加热升温,可使之分解为气体而赶走不残留在产品中。
(4)分析领域:TMAH是优异的化剂,其化能大,酯化速度快,在用气相色谱法测定脂肪酸的组成时,TMAH用作前处理剂。在较谱分析中作支持电解质;TMAH是强**碱,可作为**酸的滴定剂,尤其是在避免金属离子和非水溶剂时,TMAH是很好的选择。
(5)半导体领域:**材料蚀刻中TMAH作为正胶显影剂,**材料蚀刻主要是指光刻胶在经过显影和图形转移后的去胶;TMAH是一种具有优良的腐蚀性能的各向异性腐蚀剂,选择性好,无毒且不污染环境。较重要的是TMAH与互补金属氧化物半导(CMOS)工艺相兼容,符合SOC(嵌入式系统微处理器)的发展趋势。TMAH正逐渐替代KOH和其他腐蚀液,成为实现微电子机械系统(MEMS)工艺中微三维结构的主要腐蚀剂。
(6)其他领域:在产品提纯方面作为无灰碱用以沉淀许多金属元素;作pH值缓冲剂。
包装:
塑料瓶、塑料桶。
工业上常用25%四氧化铵溶液